10月21日2026年广州科技创新创业大赛全球赛暨香港科技大学百万奖金创业大赛广州赛决赛在广州南沙顺利举行。经过多轮角逐，超奈科技的超高速三维双光子光刻系统研发荣获大赛三等奖。此次获奖，是对超奈科技创新探索和发展潜力的肯定，也为公司进一步深化技术研发、拓展产业合作注入了新的动力。01 从湾区出发 链接全球创新资源本届大赛由广州市科学技术局与香港科技大学联合主办，由港澳台赛首次升级为全球赛，赛事汇聚了全球30多个国家和地区的创新力量。创新资源链接范围从粤港澳大湾区拓展至全球。（图片来源：香港科技大学霍英东研究院）大赛关注技术创新本身，也重项目的产业化潜力与落地发展。优胜项目除赛事奖金支持外，还将获取云算力资源、知识产权与政策申报等综合配套支持，进一步推进创新成果与产业资源对接。对科创企业而言，这样的平台不只是展示创新成果的舞台，也是链接技术与产业的纽带。02 深耕双光子光刻 探索纳米制造产业化随着半导体、人工智能及先进制造等领域不断发展，如何突破传统制造工艺的局限，将前沿技术转化为具有实际应用价值的产品，正成为科技创新与产业发展的重要课题。超奈科技专注于双光子光刻及纳米制造技术的产业化应用，致力于推动相关技术从科研探索走向实际应用。双光子光刻是一种基于非线性光学效应的三维微纳加工技术，能够在微纳尺度上实现复杂结构的精细制造，为高精度三维结构加工及微纳器件制造提供新的技术路径。随着相关技术不断发展，其应用潜力也在持续拓展。从技术研发到产品探索，超奈科技持续关注微纳制造领域的技术进步与产业需求，积极探索相关技术在不同应用场景中的落地可能。图：2026广州科技创新创业大赛全球赛颁奖现场此次获得大赛三等奖，是对公司创新发展的一次鼓励，也进一步坚定了超奈科技持续深耕技术、推动产业化应用的信心。结语此次荣获2026年广州科技创新创业大赛全球赛三等奖，是超奈科技创新发展道路上的一份鼓励，也是一份继续前行的动力。未来，超奈科技将继续秉持务实创新的理念，专注于双光子光刻及纳米制造技术的研发与应用探索，持续打磨技术与产品，携手学术界、产业界及合作伙伴，共同推动微纳制造技术迈向更广阔的应用场景。

在人工智能持续发展的当下，算力与能耗的矛盾日益突出。设想这样一种可能：未来的无人机、自动驾驶系统或移动终端，无需依赖高功耗的AI芯片，仅凭镜头前一片透明的纳米结构薄膜，就能以光速完成视觉信息的处理。香港中文大学陈世祈教授团队与黄超然教授团队，正通过制造工艺与光学计算架构的深度融合，将这一设想逐步推向现实。一、行业困境：不堪重负的电子算力传统机器视觉架构对电子算力的依赖是结构性的。成像系统中的高分辨率传感器捕获图像后，必须先将其转换为数字信号，再交由GPU完成后续计算。面对深度学习模型不断膨胀的计算需求，冯·诺依曼架构在计算速度、功耗与数据存储等方面均已显现瓶颈。二、破局之道：光学神经网络与随机投影为突破这一瓶颈，研究者将目光投向了光学神经网络（ONN）。自由空间光学处理具备速度快、功耗低、天然并行等优势，是承载机器视觉计算的理想物理载体。其运作核心是一个简洁而有效的数学原理——随机投影（Random Projection）：通过物理手段制造一块具有随机相位分布的衍射光学元件（DOE），其表面布满亚波长尺度的随机纳米结构；当携带图像信息的相干光场穿过这层3D打印的衍射层时，光在纳米结构中发生衍射与干涉；光穿透器件的瞬间，即完成了一次大规模的高维特征映射，将原始图像编码为傅里叶域的散斑图样。数学上，Johnson-Lindenstrauss引理保证了随机线性投影能在降维的同时保持数据点间的距离关系，因而是一种性能优良的特征编码方式。更重要的是，这一计算过程由光的传播自然完成，除照明外不消耗任何额外电能。最密集的矩阵运算，被外包给了物理世界本身。三、制造突破：15分钟打印400万个光学神经元ONN的概念虽好，在可见光波段的实现却长期受制于制造工艺。可见光波长短，要求器件具备数百纳米量级的特征尺寸与极高的神经元密度；而传统的电子束光刻（EBL）等手段成本高昂、耗时数小时且依赖洁净室环境，难以支撑大面积、规模化的器件制备。论文共同第一作者欧阳文琪（Wenqi Ouyang）与吕文（Wen Lyu）等人的工作，正是针对这一制造痛点提出了系统性解决方案：随机化多焦点并行打印：团队自主研发了随机化多焦点双光子光刻（TPL）系统，利用数字微镜器件（DMD）全息术将飞秒激光整形为25个并行焦点，摒弃了传统的单点逐序扫描模式。同时，独创的随机扫描策略将相邻像素的曝光在时空上打散，有效抑制了聚合扩散导致的像素粘连与边界模糊，兼顾了像素保真度与加工效率。加工速度：系统以每分钟26.7万个神经元的速度写入，仅需15分钟即可在1平方毫米的面积上完成400万个神经元（500纳米单元）的衍射层制备，且全程无需洁净室；配合PDMS软光刻与UV纳米压印，还可实现低成本批量复制。多任务通用视觉：这一光学前端作为任务无关的通用编码器，仅需搭配一个1000参数的单层数字读出网络，即可胜任手写数字分类、物体识别、人体动作识别、流式细胞图像分类及人脸关键点检测等多种视觉任务，分类准确率均达到≥97%；切换任务时仅需重新训练轻量的数字后端，光学部分无需任何改动。四、技术版图：同一团队的线扫描方案在多焦点并行打印之外，陈世祈教授团队还发展了另一条技术路线——线照明时空聚焦双光子光刻（Line-TF TPL）系统，进一步丰富了高通量TPL的工具箱：从“点阵”到“线扫描”：该系统利用DMD将飞秒激光在空间与时间维度上同时聚焦，形成一条可编程的线状光场；连续扫描打印：样品台连续移动的过程中，线状光场同步完成图案写入，实现连续、无缝的大面积加工；灰度控制与成本优化：系统支持像素级的灰度调控，可精细控制纳米结构的形貌；同时显著降低了对脉冲能量的需求，使得采用成本更低的飞秒振荡器（而非放大器）成为可能。多焦点随机化打印与线扫描连续打印，分别面向不同的器件需求与生产场景，共同构成了该团队在高通量纳米制造上的完整技术布局。五、规模效应：当神经元数量突破千万级制造工艺的成熟，为光学计算架构的规模化提供了坚实基础。黄超然教授团队的前期研究已经表明，当光学超表面的神经元规模达到4100万量级时，量变引发质变：一块完全无需训练的静态随机超表面，其特征编码能力足以媲美ResNet、Vision Transformer等大型电子AI模型。这一发现从原理上确立了"大规模随机光学编码+轻量数字读出"这一架构的可行性与竞争力。沿着这一方向，未来的应用图景已经清晰：借助高速、低成本的3D纳米打印与压印复制技术，“光子神经超表面”有望实现类似光学镀膜的规模化量产，直接集成于智能手机、微型医疗内窥镜或自动驾驶摄像头之中。设备在捕获光线的同一时刻，即以超低功耗完成特征提取与视觉计算。从电子计算到光电融合，这片3D打印的衍射薄膜，或许正是跨越计算范式的一块重要基石。《Multi-task large-scale integrated optical vision processor using ultra-fast parallel nanofabrication》 Light: Advanced Manufacturinghttps://doi.org/10.37188/lam.2026.096 

10月30日，国家重点研发计划颠覆性技术创新重点专项安徽联合项目启动仪式暨颠覆性创新项目路演活动在合肥举行。在启动仪式上，超奈科技在内的三家企业获颠覆性技术创新重点专项安徽联合项目首批立项授牌。01 首获国家专项支持国家重点研发计划是我国国家科技计划体系的重要组成部分，聚焦事关产业核心竞争力、整体自主创新能力和国家安全的关键核心技术攻关，从源头破解一批“卡脖子”难题，是我国实施创新驱动发展战略的核心载体‌。颠覆性技术创新重点专项是国家重点研发计划下属极具特色的探索型培育专项，通过“探索-前沿-工程-产业”的全梯度布局，覆盖集成电路、科学仪器、先进制造等硬科技核心领域，从极早期原理验证到产业化落地全程培育颠覆性技术“新物种”。‌本次颠覆性技术创新重点专项安徽联合项目的首批立项授牌，是对超奈科技在双光子光刻领域的创新能力和技术实力的充分肯定，也为超奈科技进一步深耕高速双光子光刻技术，扩展微纳光学产业应用提供了助力。02 聚焦颠覆性创新 突破先进制造边界随着光计算芯片、光通信、微纳光学及先进封装等领域的快速发展，市场对亚百纳米级复杂三维光学结构的制造需求越来越迫切。传统加工技术处理复杂三维结构，依然受限于效率低、工艺繁琐等问题。超奈科技聚焦双光子光刻的技术瓶颈，采用飞秒激光时空聚焦技术，将传统的“逐点串行加工”直接升级为“并行曝光”，让复杂三维微纳结构真正走向高效成型。拼的不只是加工速度，更是双光子3D打印的范式创新。本项目将率先进行超高速双光子光刻系统的技术验证，并在光计算、先进封装及微纳光学等前沿领域落地应用。结语此次是超奈科技首次获得国家级项目支持，也是公司发展历程中的一个关键节点。未来，超奈科技以此为契机，继续打磨核心设备与工艺技术，把前沿技术推向高端微纳光学器件制造，实现高端微纳制造装备的自主可控。

01 超短脉冲测量的基本原理在超快光学实验中，飞秒、皮秒量级的激光脉冲持续时间极短，常规光电探测器及示波器的时间响应通常难以直接分辨其脉冲宽度，因此需要借助超快光学测量方法进行表征。强度自相关测量的基本思路，是将待测脉冲分为两路，并引入可控的相对时间延迟，使两路脉冲在非线性晶体中相互作用。在满足相位匹配等条件时，脉冲时间重叠的程度会影响产生的二次谐波信号强度。    通过改变两路脉冲的相对延迟，并记录对应的二次谐波信号，可获得强度自相关曲线。结合高斯、双曲正割等适当的脉冲形状假设及拟合模型，可估算待测脉冲宽度。需要注意，自相关测量本身不能唯一确定完整的脉冲时域形状与相位。在实际应用中，扫描机构、光路结构、信号采集与数据拟合等环节，均会影响测量效果。02 适用于稳定重复脉冲的测量方案——扫描式自相关对于高重复频率、输出较稳定的超快脉冲序列，可采用扫描式自相关方案。该方案通过精密位移机构改变两路脉冲的光程差，逐点采集不同延迟下的非线性信号，进而形成自相关曲线。扫描机构对测量稳定性的影响飞秒脉冲测量对延迟扫描机构的位移稳定性、重复性和控制精度提出了较高要求。机械振动、回程误差及采样不稳定等因素可能引入曲线噪声或测量偏差。因此，在分析脉宽测量结果时，需要综合检查激光输出状态、扫描机构与信号采集条件。共线与非共线光路的技术特点共线结构通常具有光路紧凑、集成度高等特点，适用于对装置体积及日常测量便利性有要求的场景。非共线结构可通过光路设计实现基频光与倍频信号的空间分离，有利于控制背景干扰，并可结合相应扫描行程与探测配置覆盖更宽的脉宽测量范围。具体测量能力仍需以仪器设计和技术指标为准。共线自相关仪测量及拟合结果（Scorpio 系列）非共线自相关仪测量及拟合结果（Scorpio 系列）通讯方式与数据处理除光学与机械结构外，仪器的通讯方式也会影响系统集成与日常使用。采用网口通讯的方案，可减少对专用采集板卡的依赖，并便于与实验室现有计算机系统连接。实际兼容性应结合设备接口与软件要求确认。数据拟合是脉宽分析的重要环节。自相关曲线与脉冲真实时域波形并不等同，拟合结果取决于所采用的脉冲形状模型。对于不同类型的超快光源，应结合脉冲特征合理选择高斯、双曲正割等模型，并关注模型假设对结果的影响。原始曲线和拟合数据的保存、导出功能，也有助于实验记录、结果对比与数据追溯。03 面向单发及低重频脉冲的测量方案——单次自相关扫描式自相关通过多次采样形成完整曲线，因此通常要求被测脉冲在扫描过程中具有足够的重复性与稳定性。对于单发脉冲或重复频率较低、脉冲间变化较大的光源，逐点扫描可能难以在所需时间内获得有效的完整测量结果。此类应用可考虑采用能够在一次激光脉冲内获取自相关信息的单次测量方案。具体适用范围需结合脉冲重频、能量与仪器采集方式判断。单次自相关通常通过非共线光束交叠，将不同相对时间延迟对应到不同空间位置，再利用成像探测器同步采集空间分布的非线性信号，从而在单个脉冲事件中获得自相关信息，无需依赖逐点机械扫描。单次自相关仪测量界面及测试结果（Scorpio 系列）单次自相关可用于部分放大激光系统及相关超快光学实验。测量时需合理控制入射光斑尺寸与能量密度，以兼顾非线性信号强度和光学元件的安全工作条件。对于需要同步采集的系统，外触发接口及触发时序设置尤为重要。此外，参数调节、原始图像保存以及紧凑的模块化结构，也有助于实验配置与数据管理。04 自相关仪选型——四项重点关注的技术条件不同超快光源的脉冲参数与测量环境存在差异。选择自相关测量方案时，可从重复频率、脉宽范围、系统连接方式和波段适配能力等方面综合评估：脉冲重复频率：稳定的高重频脉冲序列可考虑扫描式方案；单发或低重频光源则需重点评估单次测量的适用性。脉宽分布区间：根据实际脉宽及所需测量范围，选择对应的扫描行程、光路构型与探测配置。系统连接与数据管理：结合实验室软硬件环境，关注通讯接口、软件兼容性，以及曲线与拟合数据的保存、导出功能。波段适配能力：根据待测激光中心波长及未来实验需求，确认仪器支持的工作波段和相应光学配置。05 大恒光电Scorpio系列自相关仪——覆盖多种测量需求 面向超快激光脉冲表征需求，大恒光电提供Scorpio 系列自相关仪，包含共线扫描式、非共线扫描式及单次测量式等产品方案，可根据脉冲宽度、重复频率及应用场景进行配置选择。在超快光学研究、激光系统调试及相关测试应用中，脉冲宽度测量不仅需要关注量程等基本指标，还需要综合考虑测量稳定性、光路适配性、数据处理与日常使用条件。Scorpio 系列面向不同脉冲参数提供相应的测量配置，具体型号及指标见下表：    从高重频飞秒脉冲到飞秒—皮秒宽量程测量，以及低重频与单发脉冲表征，不同应用场景对测量方式有不同要求。大恒光电将持续围绕超快激光测试需求，完善脉冲测量产品及配套技术支持，为科研实验和激光系统测试提供适配方案。Scorpio系列扫描式自相关仪产品示意图Scorpio系列单次自相关仪产品示意图

合肥意克赛激光科技有限公司（以下简称“意克赛激光”）于2026年3月18-20日再次参加慕尼黑上海光博会。作为中科院背景、全球极少数掌握准分子激光核心技术的自研企业，本次意克赛激光展会重磅首发三大新品：-ExciSharp大功率准分子激光器是多光束、超高功率的准分子激光器，用于高吞吐量生产的千瓦紫外光功率，具有优异的能量稳定性。-ExciHan1000是一款坚固耐用的高稳定性准分子激光器，专为高达1000Hz的快速脉冲频率应用而设计，满足工业激光器的最高要求。-308nm准分子激光血栓消融系统，凭借308nm短波长高单光子能量特性，实现精准微创清除血栓，减少血管损伤，经注册后可应用于冠状动脉及外周血管狭窄等复杂病变治疗。展会期间，合肥意克赛激光科技创始人王庆胜博士接受仪器信息网@慕尼黑上海光博会媒体采访，详解公司技术突破与产业布局。现将采访内容刊发如下：▍仪器信息网@慕尼黑上海光博会：本次邀请的嘉宾，来自合肥意克赛激光科技有限公司。合肥意克赛由中科院科研人员创立，是准分子激光技术领域，全球先进的自研企业之一，提供准分子激光器整机和应用解决方案。可批量生产、定制、维保多功率、多用途准分子激光器。现在让我们有请中科院科研人员、合肥意克赛激光科技创始人-王庆胜博士。▍仪器信息网@慕尼黑上海光博会：王博士，您好，请坐。▍王博士：大家好，我是合肥意克赛激光科技的王庆胜。Part 01308nm准分子激光技术亮点▍仪器信息网@慕尼黑上海光博会：好的，非常感谢。准分子激光技术门槛高、稀缺性强，全球较少企业具备生产能力，贵公司在准分子激光核心技术研发上，突破了哪些关键瓶颈，才实现308nm准分子激光血栓消融系统的产业化落地？▍王博士：它需要突破“308纳米长脉宽的准分子激光技术”和“308纳米紫外激光光纤传输耦合技术”。▍仪器信息网@慕尼黑上海光博会：好的。那本次参展的308nm准分子激光血栓消融系统，是全球唯二、国内唯一可替代美国进口同款的产品，能否具体说明其核心技术亮点，以及在精准微创清除血栓、减少血管损伤方面的优势，如何满足心血管介入领域的临床需求？▍王博士：激光作为一种成熟的工业加工工具和医疗手术手段，主要是体现它的两个特性：一是波长;二是它的峰值功率。308准分子激光应用于血栓钙化组织的核心优势主要体现在两方面：一是308纳米的波长选择，二是长脉宽技术。我们知道，人体血栓钙化组织的生物健能是4.0个电子伏特，我们308准分子激光的单光子能量，大于4.0个电子伏特，也就是在准分子激光血栓消融手术的过程当中，我们准分子激光正好通过激光化学作用，可以把血栓钙化组织给气化掉。这样的话，手术过程当中产生的碎屑颗粒，就很小，大小不会超过10微米，约两个细胞大小，可被人体代谢吸收。从而大幅降低手术远端栓塞的风险，提升手术安全性。另一个亮点：308纳米的准分子激光的脉宽拉长技术。我们知道血栓消融手术，需要是一种经皮介入手术，需要清除人体血管内钙化组织，在这个手术过程中，为避免激光误伤血管壁，需控制激光峰值功率。万一作用到血管壁，对血管壁不会造成损伤。我们把它的脉宽进行拉长到100纳米以上，就有效降低了激光的峰值功率，这样增加手术的可靠性，同样也避免了光纤在传输过程当中的激光损伤。这款产品在性能和安全性上，有非常大的提升。针对专业人士关注的“355纳米固体激光为何不能应用于冠脉消融手术”这一问题，核心原因在于355纳米的这个激光它的单光子能量只有3.5个电子伏特，所以它进行血栓消融的时候，不是完全的这种激光化学作用。所以会产生大的碎屑颗粒。另外，它不易进行脉宽拉长，所以他的峰值功率特别的高，会对血管壁造成风险。所以就是目前情况下，355纳米的固体激光，只能运用到外周手术，而不易用到冠脉手术。Part 02准分子激光——DUV的“心脏”▍仪器信息网@慕尼黑上海光博会：专家评价指出，准分子激光是DUV光刻机核心光源、高端平板显示制造、高端医疗器械核心设备，长期被国外垄断，属“卡脖子”技术，贵公司在这些产品方面都有哪些布局？对我国准分子激光技术产业化、高端准分子激光设备国产化有哪些重要意义？▍王博士：那么准分子激光是DUV光刻机的光源，也就是DUV光刻机的心脏，是我们高端平板显示制造的核心装备，是医疗器械激光角膜屈光矫正，也就是治疗近视眼、血栓消融、白癜风皮肤治疗仪的核心设备，那么这些设备之前全部依赖进口，我们国产空白。所以推进准分子激光的国产化，是为了填补我们国产空白、避免“卡脖子”问题。我们合肥意克赛激光从2023年成立以来，陆续推出了各种机型的准分子激光，中小功率的准分子激光已经实现了全部机型的覆盖，覆盖科研的各个应用场景。性能和进口已经相当。中小功率已经实现了全部国产替代。同时，我们大功率的DUV光刻机、高重频的准分子激光器、和面向高端平板显示制造的大能量准分子激光器也在联合产业化，整合产业方的产业资源，共同推进产品落地。Part 03高温超导带材（PLD）制备应用▍仪器信息网@慕尼黑上海光博会：准分子激光器在集成电路产业特别是DUV光刻方向起着至关重要的作用，亦是“十五五”国家重点发展的支柱产业，准分子激光技术在“十五五”前瞻布局的未来产业中能发挥什么作用呢？▍王博士：在“十五五”期间我国前瞻布局的战略性产业中，核聚变产业占据重要地位。高温超导材料是核聚变领域核心关键技术之一，而高温超导带材主要采用准分子激光沉积镀膜（PLD）工艺制备。该类材料的生产成本高度依赖准分子激光设备，因此，准分子激光技术对核聚变产业化落地及商业化发展具备关键支撑作用。核聚变商业化进程将为准分子激光行业带来全新的增量市场需求。所以，国产化替代我们势在必行。另外，大功率大能量深紫外激光实现方式目前只有准分子激光一种手段，随着新技术新工艺的不断发展，准分子激光的用途越来越广，像高温超导带材PLD制备，之前一直在实验室使用，随着聚变商业化的推进，从实验室走向了工业生产。▍仪器信息网@慕尼黑上海光博会：本次带来国内空白的国产准分子激光产品，您认为慕尼黑光博会对意克赛激光展示突破性成果、对接产业资源带来了哪些助力？▍王博士：慕尼黑上海光博会是亚洲激光光学光电行业的产业盛会，那么通过这个机会通过这个平台，让行业专家和我们进行充分的交流沟通，让产业朋友对我们增进更多的了解，在我们国产化推进的过程当中起到很重要的作用。

2025年OCC会议期间，准分子激光Debulking论坛顺利举办，国内首部《308纳米准分子激光冠脉介入应用中国专家共识》正式发布，为该技术应用树立权威标杆。中国意克赛激光深耕自研、打破技术壁垒，将于2026年慕尼黑上海光博会（展位号：N4馆-4268号），推出全球唯二、对标美国Philips的CVX-300的308nm准分子激光血栓消融系统样机，填补国产空白，诚邀国内外药械公司亲临见证，共抢市场先机。新品亮相308nm准分子激光血栓消融系统（国产空白）技术亮点1.准分子激光技术具有高门槛、高稀缺性的特点。全球范围内，包括合肥意克赛激光科技有限公司，仅有6个国家（中美德日加俄）的十几家企业具备生产准分子激光器的能力。而将准分子激光技术集成到医疗器械中，更是国际上高难度、高水准的尖端技术。2.本次将亮相2026慕尼黑上海光博会的“308nm准分子激光血栓消融系统”为替代全球唯一的进口同款产品（美国产），用于冠状和外周血栓消融，社会价值和意义极高。产品及技术介绍意克赛准分子激光消融系统由308nm波长的激光，通过不同规格的激光光纤导管，用于冠状动脉及外周血管狭窄和闭塞病变的血管减容开通治疗，同时也可用于经静脉的起搏除颤电极导线移除。对复杂冠脉病变，特别是钙化病变的介入治疗具有重要作用。与一次性使用激光光纤导管ELCA配合使用，适用于支架内再狭窄的内膜减容、球囊难以通过或扩张的病变及桥血管病变的治疗等等。该设备是国际前沿医疗设备，不仅是国产空白，全球仅有一家公司（美国Philips）有售。具备与设备配套的光纤导管技术。应用场景（例举）1.适用于可经静脉移除的患者，辅助常规电极导线工具，用于拆除问题起搏器或除颤器的导线（硅或聚氨酯外绝缘）;2.适用于严重下肢动脉硬化狭窄与闭塞病变的开通治疗；3.适用于支架内再狭窄的内膜减容、球囊难以通过或扩张的病变及桥血管病变的治疗。4. ELCA冠状动脉激光消融导管旨在穿越病变部位、为治疗做准备以及实施治疗最复杂的冠状动脉病变。这种非机械式消融导管可以通过任何0.014英寸/0.36mm的导丝输送，去除病变部位的斑块，并对其进行修饰，以改善血管条件。性能参数概述

ExciHan1000 LN｜型号解读Exci：源自准分子激光 Excimer Laser 的缩写，同时是意克赛激光企业品牌简称；Han：取义 “汉”，致敬汉朝 —— 华夏历史上国力强盛、科技位居世界前列的时代，寄托国产激光自主突破的愿景；LN：Linewidth Narrow 缩写，线宽压窄，本产品拥有纳米级线宽到皮米级窄线宽光谱的光谱调制能力。即将亮相｜CIOE 中国光博会：技术成果发布在激光精密制造、半导体检测、高端科研领域，一直有一道被海外牢牢守住的 “技术高墙”。很多人听过准分子激光器，却很少有人知道：普通带宽准分子激光器可以流通，但高精度窄线宽 ArF/KrF 准分子激光器（光谱参数对标DUV光刻机），长期被国外严格出口管制。海外厂商可开放通用机型对华销售，却始终封锁核心窄线宽模块，拒绝向中国交付 0.3–10 pm 高精度线宽的完整整机。该赛道在国内属于技术空白，没有成熟整机方案可供选择。国内 DUV光刻器件检测 标定、掩膜缺陷检测、高精度光谱科研、高端 FBG 光栅刻写等核心场景，长期面临设备无从采购、技术被垄断、产业发展受掣肘的被动局面。而今，这道壁垒，被中国自研技术彻底击穿。意克赛激光重磅技术发布｜ExciHan1000LN 窄线宽准分子激光器研发完成，可实现生产制造9月深圳 CIOE 中国光博会，我们将对外正式公布这项实现 0-1 技术破圈、100% 国产自主可控的硬核研发成果，向行业展示国产窄线宽准分子激光技术的顶尖自研实力！欢迎莅临展台做技术交流、方案对接。01看似相似，实则门槛碾压：读懂真正的技术差距市面上常规准分子激光器，多为自由运转带宽输出，光谱线宽高达数百 pm，仅能满足基础加工、普通科研需求。但窄线宽准分子激光器，是完全不同的技术维度。它需要攻克腔内高精度光栅选频、紫外窄光谱控形、 pm 级波长稳定、高重频能量均衡、超低寄生振荡等一系列核心难题，是高端DUV 激光领域技术壁垒最高、研发难度最大、管制最严苛的品类之一。这也是为什么，海外多年来坚决封锁该类设备：它不是一台普通激光器，而是半导体精密检测、高端光学计量、前沿科研的核心“光引擎”。02实现 0-1 破圈，对标国际管制顶配，补齐国内产业空白ExciHan1000LN并非简单的国产替代，而是国内该领域的一次关键技术破圈。在此之前国内无同类型成熟商用整机，海外管制机型只可查阅规格资料，无法引进落地。产品对标海外受限机型，完成全链路自研突破，填补国内高端窄线宽准分子激光的产业空白。✔ 双波长精准覆盖：ArF 193nm / KrF 248nm，适配全场景高端应用✔ 极致窄线宽定制：实现 0.3–10 pm 可调窄线宽，达到国际管制级精度✔ 高重频稳定输出：最高 1000Hz 重复频率，10±3ns 标准短脉宽，高峰值功率特性优异✔ 原厂精准光束参数：6×3mm（V×H）标准光斑，完全匹配高端精密检测工况✔ 超高稳定性：能量稳定性 σ＜3%，长期运行无漂移，满足工业级标定需求✔ 灵活适配集成：风冷 / 水冷双冷却模式，RS232/RS485 双通讯，触屏 + PC 双控制，支持光 / 电双外触发，适配各类精密设备集成依托自研金属陶瓷腔体结构 + 内置气体净化系统 + 全固态脉冲激励技术，设备无需预热、开机即用，兼具长寿命、低损耗、高可靠性的核心优势，彻底摆脱海外核心模块依赖。03不止一款新品，更是国产激光的底气突围长期以来，高端窄线宽 DUV 准分子激光器的技术话语权、设备定价权、供应主动权，全部掌握在海外少数企业手中。受出口管制约束，国内没有渠道获取完整整机，相关科研与产业升级屡屡受限。Exci Han1000LN 的上市，最大的意义在于：完成 0-1 技术破圈，打破垄断壁垒，实现真正自主可控。从此，国内半导体 DUV 光刻器件材料检测标定、掩膜版缺陷检测、晶圆精密检测、微纳光刻、光刻胶评估、高端光谱科研、高精度FBG 光栅刻写等核心领域，不再受制于海外设备封锁的枷锁。这不是一次追赶式的替代，而是国内在高端 DUV 窄线宽准分子激光技术赛道，实现从无到有的跨越。这台准分子激光器，承载的是中国高端激光产业的突破与蜕变。

在超高精度光学计量领域，环境振动、温度漂移、气流扰动固然是众所周知的"三座大山"。但当测量精度迫近亚纳米级时，工程师们赫然发现，干涉仪自身为调制相位而做的机械运动，反而成了限制精度上限的最大干扰源。如何让干涉腔在物理上彻底"静"下来，成了突破瓶颈的关键。 菲索干涉仪,光学计量的“心脏”作为“光学加工-光学计量” 闭环里最核心的计量设备，菲索式干涉仪通过采集被测表面与标准镜之间的干涉条纹，解算出纳米级精度的表面面形。而解算的关键，在于相位调制——需要改变干涉腔的光程差，采集多帧不同相位下的条纹图，再通过算法还原出真实的波前信息。几十年来，压电陶瓷（PZT）推动标准镜做机械移相，一直是业界的主流方案。它简单、成熟、可靠——直到我们开始追求亚纳米级的测量精度。 压电陶瓷(PZT)面临的四大困境困境1：振动耦合——机械运动的"原罪"任何机械位移都会带来反向的惯性力和结构共振。PZT推动标准镜的瞬间，微米级的步进会激发干涉仪结构自身的微小形变，这些形变耦合进干涉光路中，成为无法彻底滤除的噪声源。在超高精度计量中，"动"本身就是最大的不稳定因素。困境2：校准噩梦——姿态与负载的复杂性PZT移相要求其推动方向严格沿光轴推进。但干涉仪在实际使用中可能处于卧式、立式、上视、下视等不同姿态，且需搭配不同重量和尺寸的平面或球面标准镜。重力方向的改变和负载惯性的差异，使得出厂时的精密校准在换装后大打折扣，现场精准标定极为繁琐。困境3：超大口径的物理限制在超大口径（如300mm以上）光学检测中，标准镜本身重达数十公斤。PZT有限的推力和行程无法平稳推动如此沉重的光学元件，机械移相方案在物理层面直接失效。困境4：球面腔不均匀性——"一把尺子量不圆"这是最隐蔽的难题。对于球面干涉腔，PZT沿光轴的机械位移，对于近光轴和远光轴部分造成的相位调制并不相同。波前相移可近似表示为：Phase * cos（a/2）其中Phase为标定相移量，a为球面波前张角。通俗来说，这意味着同一个PZT位移量，在球面中心区域产生的相移大，在边缘区域产生的相移小，导致最终算出的面形自带"锅底"一样的系统误差。尤其是使用F/#较小的"快"标准镜时，这种误差急剧放大，此时PZT不再是移相核心器件，反而成了"麻烦制造者"。 PZT移相 vs 波长调制 核心对比一览对比维度PZT机械移相波长调制物理腔长不断变化绝对静止振动敏感度极高(机械运动引入额外振动)极低(无运动部件)姿态/负载适应性差(需依姿态和负载反复校准)优(与姿态、负载无关)球面测量误差中心与边缘移相不一致（cos效应）完美均匀(波长改变对波前各点等比例)超大口径适用性受限(推不动）完全适用(不推任何物体) 波长调制,以静致动的“降维打击”面对上述四大困境，波长调制技术给出了一套完全不同的解题思路。物理原理解析：波长调制的核心在于"换频不换距"。它通过精密调制激光二极管的注入电流，微调输出激光的波长（频率）。在固定物理腔长L下，相位差Δφ与波长变化Δλ满足关系：Δφ = (4πL/λ²) × Δλ。这意味着，只需改变波长，就能精准控制相位变化，而干涉腔的标准镜、被测件全程纹丝不动。这就彻底绕开了PZT的所有机械难题：针对困境1&2：无机械运动 → 无振动耦合，且与姿态、负载完全解耦，无需反复校准；针对困境3：无需推动重镜 → 大口径下依然轻松驾驭；针对困境4（灵魂解决）：波长变化引起的相位改变，对球面波前上每一点都是等比例且沿波前法线方向的，完美消除了PZT带来的"中心-边缘"不均匀误差。干涉腔在物理上完全"静"的状态下，完成了相位"动"的调制。德国XONOX公司 X-fiz菲索式激光干涉仪，采用模块化光纤激光光源接口；您可以快速将一台压电陶瓷采样模式的 X-fiz干涉仪，切换光源，升级到波长调制采样模式。您甚至可以在一台 X-fiz上保留两种采样模式，自由地在压电陶瓷和波长调制模式间切换。X-fiz在波长调制模式下，可以和模式化抗振算法结合，通过抗振算法，迭代解算出干涉腔实际腔长，精准匹配相移步距；同时通过模式化抗振迭代算法，大幅降低振动造成的影响。 实测数据说话XONOX公司 X-fiz 100mm口径干涉仪，VT 1200下置上视工作站，波长调制算法下，30mm平面腔，办公室环境实测波前重复性数据如下： 左图：RMS简单重复性，指标小于0.05nm @2 sigma，测试结果是0.043nm右图：RMS波前重复性，指标小于0.25nm（残差mean+2sigma），测试结果是0.21nm X-fiz 立式系统VT1200，在抗振波长调制模式下，平面透射波前重复性优于0.25nm，能稳定满足光刻物镜级别超高精度计量需求。

Recently, VY Optoelectronics Co.,Ltd. participated for the first time in the Jilin Province “Maker China” Optoelectronic Information Special Competition, a national-level platform for innovation and entrepreneurship. The company presented its independently developed High-NA Telecentric Microscope Objective Project, which received recognition from industry experts for its technological innovation and product performance.As a key optical component, the High-NA Telecentric Microscope Objective integrates VY Optoelectronics Co.,Ltd. accumulated expertise in precision optical design, optical system optimization, and high-precision manufacturing. It demonstrates the company’s capabilities in the independent development of advanced optical products.During the preparation for the competition, the R&D team worked continuously on optimizing the technical solution, developing the prototype, and refining the project presentation. Through multiple rounds of adjustments and improvements, the team enhanced both the product performance and presentation approach. With a rigorous R&D approach and solid technical expertise, the team successfully completed the project presentation, demonstrating VY Optoelectronics Co.,Ltd. commitment to continuous innovation and technological advancement.Participation in this national innovation competition provided an opportunity to showcase VY Optoelectronics Co.,Ltd. technological achievements and further strengthened the industry visibility and recognition of its core optical products.Looking ahead, VY Optoelectronics Co.,Ltd. will continue to focus on independent R&D and drive product development through technological innovation, providing global customers with professional, high-quality optical solutions.About VY OptoelectronicsVY Optoelectronics Co.,Ltd. focuses on:Industrial LensesMachine Vision Optical SystemsAOI Inspection LensesPrecision Optical ComponentsOptical System Design and AssemblyVY Optoelectronics Co.,Ltd. provides customized optical solutions for industrial inspection, scientific imaging, and automated equipment.

Why Low-Distortion Lenses Matter in Machine Vision Inspection and MeasurementIn machine vision inspection systems, clear images are essential.However, for many industrial inspection and precision measurement applications, simply having a clear image does not necessarily mean achieving accurate measurements.A machine vision system may need to perform not only surface defect inspection, but also:Dimensional measurementEdge positioningAperture inspectionPosition determinationAssembly alignmentPrecision dimensional analysisIn these applications, the optical performance of the lens can directly affect the final inspection results.During the initial setup of many machine vision projects, several common issues may occur:The image looks clear, but measurement data is unstable.The inspection performs well in the center of the image, but errors appear near the edges.The software requires repeated calibration and correction, yet measurement variations may still occur after the system enters production.In some cases, these problems are not caused by the camera or image-processing algorithm, but by insufficient control of optical distortion within the imaging system.For applications such as AOI inspection, PCB inspection, semiconductor inspection, precision dimensional measurement, and industrial automation inspection, low-distortion lenses are an important factor in maintaining measurement accuracy.1. What Is Lens Distortion?Lens distortion refers to the geometric deviation between the actual shape of an object and its image after passing through an optical system.Ideally, the shape and dimensional relationships of an object should be preserved during imaging.In practical optical systems, however, factors such as lens configuration, field of view, and optical design can cause the image to deviate from the actual geometry.Common types of lens distortion include:1. Barrel DistortionThe image expands outward toward the edges, producing a shape similar to a barrel.2. Pincushion DistortionThe image contracts toward the center near the edges, producing a shape similar to a pincushion.3. Complex DistortionSome high-performance industrial lenses also require control of more complex and localized distortion characteristics across the image field.For general photography, minor distortion may have little visible impact.For machine vision measurement systems, however, even relatively small geometric deviations can affect the final measurement results.This is because machine vision measurement relies on the relationship between:Pixel Position → Actual DimensionIf the image contains geometric errors, the calculated measurement may also contain corresponding deviations.2. Why Does Distortion Affect Machine Vision Measurement?In a machine vision measurement system, software typically identifies features such as:Product edgesCircular hole positionsReference marksLine profilesCharacteristic dimensionsThe system then calculates actual dimensions based on pixel coordinates.When lens distortion is significant, pixel positions at different locations in the image may not correspond accurately to their actual spatial positions.This can result in:Dimensional measurement errorsUnstable edge positioningDifferent measurement results between the center and edge regionsMore complex calibration proceduresIncreased variation during productionConsider a common example:A connector requires inspection of the spacing between its pins.When the product is positioned near the center of the image, the measurement may be within the expected range.When the same product moves toward the edge of the field of view, lens distortion may cause the measured positional relationship to change.Such differences may not be obvious during ordinary visual inspection.For precision measurement systems, however, even small deviations can directly affect product evaluation.3. Why Does a Sharp Image Not Necessarily Mean Accurate Measurement?This is an issue that is often overlooked in machine vision projects.Some users may ask:“The image is already very clear. Why are the measurement results still unstable?”The reason is that:Image sharpness and geometric accuracy are two different optical characteristics.A lens may provide:High resolutionSharp focusingGood contrastwhile still exhibiting a certain level of geometric distortion.In this situation, the human eye sees a sharp image, while the measurement system is working with geometric information that has been transformed by the optical system.For defect inspection, image sharpness and contrast may be particularly important.For example, when detecting scratches, dust, or foreign particles.For dimensional measurement, however, additional factors need to be considered, including:Distortion controlImaging consistencyEdge resolutionOptical stabilityTherefore, when selecting a lens for machine vision measurement, it is not enough to consider only whether the image is clear.More importantly, the imaging system should maintain stable and accurate performance across the entire field of view.4. Why Can Software Correction Not Completely Replace Optical Distortion Control?Many machine vision systems use software calibration.Algorithms can compensate for certain types of lens distortion.Software correction is indeed an important part of a machine vision system.However, it cannot replace a well-designed optical system.If the lens has relatively large distortion or significant differences in imaging performance across different regions of the field, the software must perform more compensation.This may result in:Longer system setup and calibration timeIncreased calibration complexityReduced long-term consistencyAdditional adjustments after changes in production conditionsActual industrial environments are often less controlled than laboratory conditions.Equipment may be affected by factors such as:Temperature changesMechanical vibrationInstallation tolerancesProduct height variationsIllumination changesTherefore, a more effective approach is to minimize distortion during the optical design stage and then use software correction as a complementary method.5. Why Are Low Distortion and Flat-Field Imaging Often Considered Together?In high-precision machine vision systems, distortion is not the only optical factor that needs to be controlled.Many projects may also encounter:Edge blurField curvatureUneven sharpness between the center and edgesNon-uniform image brightnessFor this reason, low-distortion design and flat-field imaging are often considered together.In simple terms:Low-Distortion Lens:Helps maintain more accurate geometric relationships between object shape and image dimensions.Flat-Field Lens:Helps maintain more uniform image sharpness across the field of view.For applications such as:PCB inspectionSemiconductor inspectionDisplay panel inspectionPrecision component measurementboth characteristics can affect inspection consistency.In some high-precision machine vision applications, when the inspection target includes features as small as 10 μm or below, even slight reductions in edge resolution or changes in distortion across the field may affect the inspection results.Therefore, a well-designed industrial lens should not only provide a sharp image at the center, but should also maintain stable optical performance across the entire field of view.6. Why Can Large-Sensor Cameras Reveal More Lens Limitations?In recent years, more machine vision systems have adopted:Larger-format industrial camerasHigher-resolution image sensorsThe goal is to obtain a larger field of view and higher inspection resolution.However, upgrading the camera does not necessarily guarantee an improvement in overall system performance.The reason is that the lens must be properly matched to the sensor format.For example, a lens may originally be used with a 2/3-inch sensor.If the system is later upgraded to a 1-inch or larger sensor, the sensor uses more of the lens's peripheral image area.Some optical limitations that were previously less noticeable may then become apparent:Reduced edge sharpnessIncreased distortionVignettingReduced imaging consistencyTherefore:A larger sensor requires sufficient image-circle coverage and strong edge imaging performance from the lens.When upgrading a machine vision system, the camera and lens should be considered as an integrated optical imaging system rather than as independent components.7. Where Are Low-Distortion Lenses Commonly Used?Low-distortion industrial lenses are widely used in applications such as:PCB InspectionFor circuit pattern inspection, dimensional analysis, and defect detection.Semiconductor InspectionFor wafer inspection, component positioning, and analysis of small features.Precision Component MeasurementFor dimensional inspection, position measurement, and assembly verification.Connector InspectionFor pin spacing and positional accuracy inspection.Display Panel InspectionFor edge positioning, defect inspection, and dimensional analysis.Automated Assembly SystemsFor component positioning and precision alignment.These applications share a common requirement:The inspection result needs to be not only visible, but also reliable and measurable.8. What Is the Difference Between a Low-Distortion Lens and a Telecentric Lens?A common question is:What is the difference between a low-distortion lens and a telecentric lens?They address different optical requirements.Low-Distortion LensPrimarily designed to control geometric distortion in the image.Key considerations include:Geometric accuracyDimensional consistencyDistortion control across the field of viewTelecentric LensPrimarily designed to reduce magnification changes caused by variations in object distance.It is suitable for applications requiring:High-precision dimensional measurementInspection of products with height variationsHigh magnification stabilityThe appropriate lens should be selected according to factors such as:Product geometryRequired measurement accuracyWorking distanceCamera specificationsOperating environmentFor some high-precision applications, a combination of low-distortion and telecentric characteristics may also be required.9. VY Optoelectronics Low-Distortion Machine Vision Lens CapabilitiesVY Optoelectronics Co.,Ltd. has long focused on:Industrial lens design and manufacturingMachine vision optical systemsAOI inspection lensesHigh-resolution imaging lensesPrecision optical assembly and alignmentIntegrated optomechanical systemsFor different application requirements, we can provide:Low-distortion lens designFlat-field machine vision lens designHigh-resolution industrial lens developmentOptical component manufacturingPrecision lens assembly and alignmentIntegrated optical system solutionsIn actual projects, we do not focus on a single optical parameter alone.We also consider:Camera sensor formatWorking distanceField of viewResolution requirementsInspection accuracyMechanical constraintsActual operating environmentThrough optical design, precision manufacturing, assembly and alignment, and optical performance verification, VY Optoelectronics helps customers develop more stable machine vision imaging systems.10. What Information Is Needed When Selecting a Low-Distortion Lens?To evaluate a suitable lens solution more accurately, the following information is usually required:Camera model and sensor formatPixel sizeField of viewWorking distanceTarget object dimensionsMinimum detectable featureRequired measurement accuracyDistortion requirementsOperating wavelength rangeIllumination methodAvailable installation spaceOperating environmentThis information helps the engineering team determine whether the application requires:A standard industrial lensA low-distortion lensA flat-field lensA telecentric lensA fully customized optical systemConclusionIn a machine vision measurement system, low distortion is more than a simple specification.It is an important factor affecting the reliability of measurement results.A sharp image helps the system identify the target.A low-distortion image with consistent optical performance can further support accurate measurement across the field of view.For applications such as AOI inspection, PCB inspection, semiconductor inspection, and precision dimensional measurement, lens selection can have a significant impact on overall system consistency.If your machine vision project experiences:Unstable measurement resultsSignificant differences between center and edge measurementsFrequent calibration requirementsLimited improvement after upgrading the camerathe issue may not necessarily be the camera or software. It may be related to the optical system and the matching between the lens and camera.VY Optoelectronics Co.,Ltd. welcomes opportunities to work with industrial customers on machine vision, precision measurement, and customized optical system requirements.

6/23/2025, Barrington, NJ USA  —全球光学元件领导者Edmund Optics®正式宣布升级其超快光学元件供应体系，通过整合行业最全面的现货库存与专业技术支持网络，为飞秒/皮秒激光应用提供全链路解决方案。目前该产品线已覆盖工业制造、科研实验等多元化应用场景。产品线全面覆盖超快激光光学解决方案，包含两大核心技术方案：1）高性能离子束溅射(IBS)镀膜反射镜系列（含独家代理的 UltraFast Innovations品牌产品）；2）高性价比蒸发镀膜方案。凭借常备库存的反射镜、透镜、窗口片、光栅、滤光片等全品类库存，实现从光学设计到系统集成的全链路供应保障，助力工程师快速完成超快光学系统搭建。该产品组合兼顾不同的成本预算与性能需求，更依托强大库存体系保障极速交付与高效采购。无论何种应用场景，Edmund Optics® 均可为工程师精准匹配超快光学系统元件——通过7×24小时在线专家沟通渠道，随时提供技术咨询服务。关于爱特蒙特光（Edmund Optics®）爱特蒙特光学（Edmund Optics）拥有超过80年的行业经验，是一家值得信赖的高品质光学元件及解决方案供应商，服务于生命科学、生物医学、工业检测、半导体及研发等多个领域。公司在全球19个地区拥有1,300余名员工，业务规模持续扩大。作为光学与光子学领域的领军企业，爱特蒙特光学（Edmund Optics）提供两大核心解决方案：一是打造拥有超过34,000款标准产品的强大现货平台业务，二是专注于精密光学元件与成像组件定制化开发及批量生产的先进制造服务。爱特蒙特光学（Edmund Optics） 平台业务事业部的在线商城构建了一站式光学采购生态，汇聚了自主生产体系及40余家业内顶尖品牌的34,000+现货产品，实现了全光路解决方案的即时供应与便捷采购。针对特殊需求，先进制造事业部可提供从定制化设计到样品生产，再到可扩展量产的完整服务链，依托四大全球研发中心与九大专业工厂的先进制造网络，年产能突破200万光学元件及175,000+精密组件，赋能尖端光学系统的快速落地。更多信息，请访问官网 www.edmundoptics.cn 

2026年1月9日，美国新泽西州巴林顿‌ — 爱特蒙特光学®（Edmund Optics®），全球领先的光学与成像技术解决方案提供商，现已扩展其‌TECHSPEC® HP系列定焦镜头‌产品线，推出‌新款6.5mm焦距镜头‌，将高分辨率成像性能延伸至需要更短工作距离和更宽视角的应用领域。HP系列专为工厂自动化和机器视觉系统设计，在这些系统中，分辨精细细节对于检测精度和可靠测量至关重要。这款新的6.5mm镜头保留了HP系列的核心性能特点，提供卓越的分辨率，以支持苛刻的检测任务，如微小缺陷检测和高精度尺寸分析。该镜头针对高达1.1英寸的传感器进行了优化，能够在更大的视场范围内实现细节成像，帮助系统设计人员在紧凑或空间受限的装置中达成性能目标。HP系列由公司内部设计和制造，提供跨多种焦距的一贯高光学性能解决方案，使工程师能够在系统几何结构变化时保持成像性能。6.5mm焦距的加入扩展了这种灵活性，为机器视觉系统设计人员在需要更短工作距离或更大视场的系统中提供了更多选择。凭借现货供应和快速交付，新款6.5mm HP系列镜头支持快速集成到可投入生产的工厂自动化系统中。‌关于爱特蒙特光学：‌爱特蒙特光学拥有超过80年的经验，是高品质光学元件和解决方案值得信赖的供应商，服务于生命科学、生物医学、工业检测、半导体及研发等行业。公司在全球19个地点拥有1,300多名员工，并且持续增长。作为领先的光学和光子学公司，爱特蒙特光学提供两种专业解决方案：一个拥有超过34,000种现货产品的强大‌市场平台‌，以及专注于精密光学和成像元件定制与批量生产的‌先进制造服务‌。爱特蒙特光学的‌市场平台‌是一个一站式商店，提供来自内部制造和40多个顶级品牌的超过34,000种现货产品，覆盖整个光路，支持快速便捷的采购。对于定制化解决方案，‌先进制造服务‌提供定制设计、首件生产以及可扩展的制造服务，由四个全球设计中心和九个专业工厂提供支持，每年生产超过200万个元件和175,000多个组件。了解更多信息，请访问 ‌www.edmundoptics.com‌。

作为一个勤俭节约的消费者，我之前一直特别排斥和反感花钱打广告，也觉得太花钱的花架子活动没必要，因为羊毛出在羊身上，最终所有的花费还是要客户来买单，比如展会。不过在连续多年参展，从小展位到大展位，标展到特装后，我改变了一些想法。实际上我们在不断提高展会预算，例如即将来到的慕尼黑上海光博会就要投入十几万。核心逻辑是我们销售额的增幅高于参展费用增幅，参展的花费虽然逐年增加，但在公司成本的占比中并没有增加，也绝对没有因为参展费用而提高报价或增加利润率，销售额的增长甚至可以让我们以更低的利润率给客户报价、更加合理的备货以缩短交期。花钱参加展会和打广告反而能降低我们的销售成本，这完全打破了我之前的认知。同时参加展会并非是简单的开销，而是一项能产生规模报酬递增的市场投资——展位与投入的系统性升级，能带来客户数量与合作质量的非线性增长。 算下来，我们公司在光电行业的展会这条路上，已经走了近十年。展位面积从9平到18平再到36平，展位结构从标准展位到光地桁架再到木结构特装，参展形式也尝试过单独参展和联合参展，参展数量也在不断增加，我们对参展这件事的理解，参展经验也在一步步加深。今天和大家分享我们对展会从“实体广告”到“引流引擎”的认知转变，还有我们在参展过程中积累的一些参展经验教训。 早期，我们视展会为“看得见摸得着的实体广告”——主要功能是向老客户证明公司的真实存在和持续运营。那时展位小、投入少，回报也停留在品牌曝光的浅层。但随着我们加大投入——扩大面积、改变展台设计——事情开始发生变化。当我们在2026年慕尼黑上海光博会投入十几万展会预算时，我们清楚的知道这不再是单纯的“参展费”，而是一项有明确预期的市场投资。 这背后有一个名为“规模报酬递增”的逻辑：有效的市场投入，往往能产生非线性的回报。 以前不太理解，现在自己实践了才深有体会。比如，我们把展位投入从几万增加到十几万（翻了一倍甚至更多），但因此吸引到的优质客户数量、达成的合作金额，其增长却可能远超过投入的增幅——可能翻两倍，甚至更多。这是因为，更大的投入带来了更强的品牌曝光、更专业的形象和更集中的客户注意力，从而显著提升了转化效率和客户质量。 具体来说，我们投入的十几万，主要买回了几样东西： 高效的客户拜访，很多老客户会来我们展位参观、聊天，直接看到我们主推的新产品。面对面和客户、原厂交流的机会特别重要而且难得。原来展会花费在5万以内的时候，我觉得光是高效拜访客户这一项就把展会费用值回来了。 高效的行业曝光：在三天时间里，我们能够面对面接触大量精准的行业客户。这种效率和浓度，是日常销售或宣传难以实现的。将资金投入在展会，能撬动了原本需要长时间、高成本才能接触的市场资源，这也是最直观反映规模报酬递增的一点。 高质量的潜在客户：一个专业的展台本身就是筛选器，能自然吸引真正有需求的客户，可以为我们节省了大量前期筛选的时间和成本。这些高质量线索的转化率更高，价值也更大。 直观的品牌实力展示：在行业重要的平台上，一个专业、用心的展位，本身就是公司实力和专注度的最直接证明，能快速建立客户的初始信任。这种信任能直接降低后续的沟通成本和合作门槛。 展会同时也是进行高效率、低成本行业竞争分析的机会。通过实地走访同行与竞争对手展位，观察其主推产品、新技术方向、定价策略、宣传话术以及展台设计与客流情况。这些信息的获取速度远超日常网络调研，能帮助我们快速把握市场趋势、验证自身策略，并及时调整竞争思路。这些信息本身就是参展投资回报中极具价值的一部分。 当然，要让投入的展会预算真正产生回报，不仅需要投入的决心，更需要系统性的展会准备和执行。连续多年参加相同的展会，我们也积攒了不少经验和教训。 选展位是第一步，也是关键的一步。一个好位置（比如主干道旁、入口处）的人流抵得上三个偏僻角落。位置的好坏，直接决定了我们需要多大面积来承接人流，也直接影响着我们的展会预算投入产出比。 根据我们的经验，一个完整的展会准备周期，要两个月甚至更久。这期间需要确认参展样品、确定搭建供应商、沟通设计方案、制作宣传物料、培训参展人员等。每一个细节都要反复推敲，比如背景墙是突出产品还是突出品牌，样品的演示流程等都需要提前确认。 展会前一个月就要开始预热，在公司官网、公众号等发布参展信息与亮点剧透；业务人员的邮件签名更新展位信息；主动约见现有客户与目标客户在展台见面。通过这些展会准备能有效提升我们在展会期间的客户到访率和洽谈质量。 参展人员就是公司的门面。他们的产品知识、沟通话术、客户接待流程都需要提前培训和演练。确保每位同事都能清晰介绍产品优势，准确识别客户需求，并做好客户分类记录。 在展会现场接待客户的同时，公司留守人员也不会闲着，根据前方收集到客户信息，他们会及时整理名片、分配跟进任务，确保每个有价值的线索都能在最佳时间内得到响应，将展会热度转化为实际订单。 参展是件高强度的工作，后勤保障会直接影响团队状态。选择安静、交通便利的酒店很重要。我们偏好地铁站旁的酒店，虽然早上地铁较拥挤，但能确保准时到达展馆，避免堵车风险。有参展经历的可能都知道，展馆内提供的餐饮真的是一言难尽。因此我们会尽量自己点外卖送到展馆旁边，这种方案品质和口味都会比展馆内用餐好太多。参展前务必要提前摸清场馆周边的交通环境和餐饮住宿条件。 现在看，参展对我们来说，已经从一项市场活动变成了公司发展的投资。它遵循一个简单的商业道理：在关键节点上敢于进行必要的、高质量的投入，往往能带来超越投入本身的超额回报。 这笔账，我们算的是综合的、长期的回报。未来，我们还会继续在这条路上走下去，也期待在更多的展会现场，与各位同行、客户朋友们交流产品知识和参展经验。如果有具体问题，也欢迎随时和我们探讨。

维尔克斯光电将于2026年3月18-20日参展2026慕尼黑上海光博会（Laser World of Photonics China），地点：上海新国际博览中心，展馆：N2，展位号：N2.2711，展位面积：36㎡。欢迎新老客户届时光临，莅临指导！ 观众注册通道 点此或者扫描下方二维码注册，避免现场排队拥堵。 维尔克斯光电位置示意及路线图 乘坐地铁7号线到终点站花木路，1号出口就是入口厅，入场后一直主通道直行到N2馆的六号门，左侧就是我们的展台。和去年在同一个位置。N2馆布局 慕尼黑上海光博会自2006年举办以来，已成为亚洲激光、光学、光电行业一年一度的行业盛会。本届展会致力于助力构建产业新发展格局，精细化布局七大展区，集中展示激光智能制造、激光器与光电子、集成光电与光通信、光学、光学制造、检测与质量控制及红外技术与应用产品，特设生物医学光子学专区2.0， 近1500家国内外参展商，展品种类更精细，覆盖光电技术上下游产业。 此次参展我们的部分展品信息如下： DUMA自准直仪，应用：用于精密测量直线度、平行度、垂直度等几何参数。用于角秒（1sec）级的设备或镜组的直线度、平行度、垂直度等几何参数精密测量 Dataray光斑分析仪，配备功软件（免费）。适合用激光剖面测量，可配合使用 M2DU 平台进行激光器的M2 测量。 国产自研匀光微透镜阵列。低成本匀光，整形方案 Holoor激光分束器，激光匀化器，光束整形器。高质量整形，分束，光束均匀度90%以上 结构光DOE，调控光波衍射特性实现光束整形、分束 激光防护眼镜，防护等级OD10+，防护波段180-10600nm Arcoptix傅里叶红外光谱仪，具备更宽的测量范围，在波长以及强度标度上均具备出色的稳定性。其分辨率比较高、波长范围宽、灵敏度较高的技术优势下仍然拥有性价比较高的特点； LEJ显微镜光源系统，一套- luxyr LED Nano、- luxyr LED Fluo、- luxyr LED Magna、- LED pulse controller OptoSigma西格玛光机显微镜系统以及自动平台系统

近日，北京市科学技术委员会、中关村科技园区管理委员会正式公布2025年度北京市重点实验室认定名单，多场低温科技（北京）有限公司（以下简称“多场科技”）参与共建的“原子制造和真空高端设备北京市重点实验室”与“固态量子器件北京市重点实验室”成功获批，标志着企业在前沿科技领域的协同创新能力再获权威认可。原子制造和真空高端设备北京市重点实验室该实验室以中国科学院物理研究所为牵头单位，联合中科艾科米、多场科技、中科量仪、怀柔仪器等多家单位共建，锚定原子级制造与表征领域，通过攻克适用于原子制造的极端环境获得、大范围高精度纳米移动技术等关键核心技术，实现装备自主化研发，破解原子级精准制造难题，为原子级精度材料和器件的基础研究与产业应用提供自主可控的装备支撑。固态量子器件北京市重点实验室该实验室由北京大学物理学院牵头，联合北京量子信息科学研究院、多场科技共建，是中国在量子科技前沿领域部署的关键研发平台之一。实验室主要聚焦量子材料新奇量子效应及高性能器件构筑中的核心科学技术问题，围绕“量子材料设计制备-物态探测调控-器件构筑集成”全链条创新，致力于打通从基础物理研究到实际应用转化的关键技术瓶颈，推动我国在固态量子信息技术领域的源头创新与自主发展。作为北京市科技创新体系的重要组成部分，北京市重点实验室是集聚培育优秀创新人才、开展高水平科研攻关的重要科技创新基地，着力解决科技难题、促进科技成果转化、培育新经济增长点。未来，多场科技将以两大重点实验室为核心协同平台，通过跨机构、跨领域与国内顶尖科研机构紧密合作，充分发挥自身在极端环境纳米运动控制、物性测试技术等领域的核心技术优势，加速高端装备自主化、量子科技产业化进程，为国家战略需求贡献自身力量。