工作原理

Eulitha专利技术——位移泰伯效应光刻（Displacement Talbot Lithography，DTL）。利用紫外、深紫外光源经过光刻版后形成的自成像衍射光场，结合积分扫描曝光，实现高效率地曝光大面积纳米周期/准周期图案。

设备特点

1. DTL专利技术：高分辨率60nm L/S
2. 非接触：良率高、光刻版寿命延长
3. 高景深：适合曲面、厚胶的光刻
4. 大面积：无拼接、高效率
5. 高性价比：前期投入及后期维护成本低
6. 提供工艺及掩模版设计制作支持

应用领域

1. 光电器件：DFB、VCSEL、PSS
2. 光学器件：WSS、DOE、FBG、WGP
3. XR：SRG和VHG衍射光波导、ARHUD
4. 玻璃表面特殊纳米结构
5. 生物仿生

纳米模板加工服务

针对1D和2D纳米周期性标准结构，高性价比模板，可用于生产、

开发、实验。

Eulitha的光子纳米模板由Eulitha研发的开创性PHABLE™光刻机

制作，其兼具高品质和价格优势。工厂通过优化硅基和石英基刻

蚀工艺，结构具有轻微正斜率，非常适合用户压印工艺。

周期性标准模板；非标定制，批量加工

1. 标准纳米模板：线栅、四方排布、六方排布
2. 多线栅组合纳米模板
3. 多图案多周期组合模板