设备应用特点：

（1）低散射值、低缺陷密度、低光学损耗、低表面粗糙度、低湿度敏感

（2）高密度薄膜 、高附着力、高激光损伤阈值、高稳定性

设备应用方向：

（1）193nm到1064nm各主要波段的高损伤阈值的激光减反膜、激光高反膜

（2）窄带滤光片、分光滤光片、截止滤光片

（3）金属反射镜、极化镜、分束镜、光纤端面

（4）高电导宽透过ITO膜、超薄金属膜、界面低扩散Mo-Si体系、TGV种子层、磁性隧穿器件、应力膜、耐磨层等